Pevný povrch je bombardovaný energetickými časticami

naprašovanie

Základné princípy

Pevný povrch je bombardovaný energetickými časticami (zvyčajne kladnými iónmi urýchlenými elektrickým poľom). Naprašovanie atómov a molekúl na pevný povrch po výmene kinetickej energie s dopadajúcimi energetickými časticami sa nazýva naprašovanie. Naprašované atómy (alebo zhluky) majú určité množstvo energie. Môžu byť opätovne ukladané a kondenzované na povrchu pevných substrátov za vzniku tenkých filmov, nazývaných naprašovacie povlaky. Čína dodávatelia plazmových lakovacích strojov

V porovnaní s tradičným vákuovým naparovaním má naprašovanie mnoho výhod, ako napríklad:

Priľnavosť medzi filmom a matricou je silná.

Je vhodné pripraviť tenké filmy materiálov s vysokou teplotou topenia.

Jednotný film možno pripraviť na veľkej ploche kontaktného substrátu.

Zloženie filmu sa dá ľahko kontrolovať a možno pripraviť zliatinové filmy s rôznym zložením a pomerom.

Reaktívne naprašovanie možno použiť na prípravu rôznych zložených filmov a viacvrstvové filmy možno jednoducho pokovovať.

Je ľahké pre priemyselnú výrobu, nepretržitú a automatickú prevádzku atď.