Bežné metódy technológie PVD

Depozícia naprašovaním

Naprašovanie je technika nanášania tenkých vrstiev spojená s plynovým žeravým výbojom. Existuje mnoho metód naprašovania, ako je naprašovanie jednosmerným prúdom, vysokofrekvenčné naprašovanie a reaktívne naprašovanie. Magnetrónové naprašovanie, stredná frekvencia Čína dodávatelia PVD náterových systémov široko používané naprašovanie, jednosmerné naprašovanie, vysokofrekvenčné naprašovanie a naprašovanie iónovým lúčom.

Charakteristika: Inertný plyn (ako je argón) potrebný na výboj je naplnený vo vákuovej komore. Pri pôsobení vysokonapäťového elektrického poľa vzniká ionizáciou molekúl plynu veľké množstvo kladných iónov. Keď sú nabité ióny urýchlené silným elektrickým poľom, vytvorí sa vysokoenergetický iónový prúd, ktorý bombarduje materiál zdroja odparovania (nazývaný cieľ). Pri bombardovaní iónmi opustia atómy materiálu zdroja vyparovania pevný povrch a rozprášia sa na substrát pri vysokej rýchlosti, aby sa usadili tenké filmy.