Ako zlepšuje stroj na odparovanie s vysokým vákuom vylepšovanie náterov, ako je dosiahnutie hladkého, lesklého alebo matného povrchu v závislosti od aplikácie?

Ten odparovanie je jedným z najdôležitejších faktaleboov v procese odparovania s vysokým obsahom a hrá priamu úlohu pri určovaní textúra a unifalebomita povlaku. V a Vysoký vákuový výparový stroj na odparovanie , rýchlosť, pri ktaleboej sa materiál odparí, sa dá presne kontrolovať, čo umožňuje výrobcom doladiť povrchovú úpravu. Pomalšia miera odparovania vedie k a hustejšie a plynulejšie povlaky , pretože odparovaný materiál má viac času na kondenzáciu a tvorbu súvislej vrstvy. Tento proces vedie k a Vysoko reflexný, lesklý povrch , s menším počtom povrchových nedostatkov. Naopak, rýchlejšia miera odparovania môže viesť k a drsnejší, viac granulovaný povrch , čo je užitočné pri zameraní na a matný or satén dokončiť. Úpravou rýchlosti odparovania stroj poskytuje flexibilitu pri riadení vzhľadu a textúry povlaku, čo umožňuje prispôsobenie na základe konkrétnych potrieb aplikácie.

Ten substrát Počas procesu depozície má významný vplyv na hladkosť a priľnavosť povlaku. Pri vyšších teplotách sa povrch substrátu stáva vnímavejším k odparenému materiálu a povzbudzuje Lepšia adhézia a uniformita . Molekuly alebo atómy poťahového materiálu môžu migrovať voľnejšie a vytvárajú usporiadanejší a hustý film, ktorý prispieva k a lesklý, hladký vzhľad . Nižšie teploty substrátu však vedú k menšia mobilita pre odparené častice, čo vedie k a drsnejší, pórovitejší povlak . Toto prostredie s nižšou teplotou je ideálne na vytváranie povlakov s a matný or matný povrch , kde je požadovaný textúrovanejší povrch. V Stroje s vysokým vákuovým odparovaním , presná kontrola teploty substrátu je rozhodujúca pri dosahovaní presných povrchových charakteristík potrebných pre aplikáciu, či už pre optické povlaky , dekoratívne povrchové úpravy alebo funkčné tenké filmy .

Ten ukladanie ukladania —To je uhol, v ktorom odparovaný materiál zasiahne substrát - môže byť upravený tak, aby dosiahol rôzne účinky poťahovania. Keď sa ukladá odparený materiál kolmý na substrát (normálny výskyt), film má tendenciu byť hladký a nepretržitý , pretože materiál je pravdepodobnejšie, že vytvorí hustú, rovnomernú vrstvu. To má za následok a lesklý, reflexný povrch . Ak je však uhol depozície šikmý , čo znamená, že odparený materiál zasiahne substrát pod uhlom, povlak bude mať často viac textúrovaný povrch . Táto šikmá technika depozície je užitočná na vytváranie matné povrchové úpravy , ako to má za následok Viac drsnosti povrchu V dôsledku spôsobu, akým materiál interaguje so substrátom. Okrem toho môže vytvoriť šikmé ukladanie gradient v hrúbke a textúre povlaku, čo môže byť žiaduce pre dekoratívne alebo funkčné povlaky s konkrétnymi estetickými vlastnosťami.

Tok materiálu odkazuje na hustota odparovaných častíc, ktoré v priebehu času dosahujú substrát. V Stroje s vysokým vákuovým odparovaním , tok materiálu priamo súvisí s ukladanie a môže byť kontrolovaný tak, aby ovplyvnil povrchovú úpravu. A vyšší tok vedie k a hrubší, hustejší povlak , čo zvyčajne vedie k a lesklý, hladký povrch . Keďže materiál usadzuje rýchlejšie, povrch má menej času na to, aby sa stal drsným alebo nepravidelným, čím sa vytvorí leštenejšia povrchová úprava. Naopak a nižšia rýchlosť toku mať za následok tenšie povlaky , čo môže viesť k Viac drsnosti povrchu a a matný alebo saténový povrch . Schopnosť jemne ovládať tok materiálu umožňuje výrobcom dosiahnuť povlaky, ktoré spĺňajú špecifické vizuálne a funkčné požiadavky, ako napríklad reflexné filmy or protireflexné povlaky .

Po uložení povlakového materiálu chladenie substrátu a povlaku je ďalším kritickým faktorom pri určovaní konečného vzhľadu povlaku. Rýchle chladenie môže spôsobiť tepelný stres , čo vedie k a drsnejší, menej jednotný povlak to môže byť pre niektorých požadované matné povrchové úpravy . Na druhej strane, postupné chladenie umožňuje rovnomernejšie usadiť sa materiál hladší povrch to vylepšuje lesk a uniformita povlaku. Ovládaním rýchlosti chladenia môžu výrobcovia ovládať textúru konečného povlaku, vyváženie tepelné vlastnosti s požadovaným vizuálny vzhľad . Kontrola chladenia je obzvlášť dôležitá pre vysoko výkonné povlaky používané v citlivých aplikáciách ako optické šošovky , solárne články alebo elektronika .