Aké faktory ovplyvnia výkon lakovania vákuového lakovacieho stroja?

Aké faktory ovplyvnia výkon náteru vákuový lakovací stroj ?

Ak chce vákuový nanášací stroj potiahnuť dobrý film, musí zabezpečiť, aby mnohé faktory boli v normálnom stave, ako napríklad vákuové nanášanie, vzdialenosť základného cieľa, teplota vyparovania, teplota substrátu, zvyškový tlak plynu a ďalšie faktory. Existuje odchýlka v určitom faktore. Ovplyvní výkon poťahovej vrstvy vákuového poťahovacieho stroja. Nasleduje vákuový editor, ktorý podrobne vysvetľuje, aké faktory ovplyvnia výkon poťahovania vákuového poťahovacieho stroja. Dúfam, že vám to môže pomôcť:

1. Rýchlosť odparovania

Veľkosť rýchlosti vyparovania má veľký vplyv na nanesený film. Pretože štruktúra povlaku vytvorená nízkou rýchlosťou nanášania je voľná a ľahko sa ukladajú veľké častice, aby sa zabezpečila kompaktnosť štruktúry povlaku, je veľmi bezpečné zvoliť vyššiu rýchlosť odparovania. Keď je tlak zvyškového plynu vo vákuovej komore konštantný, rýchlosť bombardovania pri bombardovaní substrátu je konštantná. Preto po zvolení vyššej rýchlosti nanášania sa zníži zvyškový plyn obsiahnutý v nanesenom filme, čím sa zníži chemická reakcia medzi molekulami zvyškového plynu a časticami odpareného materiálu filmu. Preto je možné zlepšiť čistotu naneseného filmu. Je potrebné poznamenať, že ak je rýchlosť nanášania príliš vysoká, môže to zvýšiť vnútorné napätie filmu, čo má za následok zvýšenie defektov vo vrstve filmu a v závažných prípadoch dokonca prasknutie vrstvy filmu. Najmä v procese reaktívneho odparovania sa môže zvoliť nižšia rýchlosť nanášania, aby sa umožnila dostatočná reakcia reakčného plynu a častíc odpareného filmového materiálu. Samozrejme, pre rôzne odparovanie materiálu by sa mali použiť rôzne rýchlosti odparovania. Praktickým príkladom toho, ako môže nízka rýchlosť nanášania ovplyvniť výkon fólie, je nanášanie reflexnej fólie. Napríklad, keď je hrúbka filmu 600 x 10-8 cm a čas odparovania je 3 s, odrazivosť je 93 %. Ak sa však rýchlosť odparovania pri rovnakej hrúbke filmu spomalí, nanesenie filmu trvá 10 minút. V tomto čase je hrúbka fólie rovnaká. Odrazivosť však klesla na 68 %.

2. Teplota podkladu

Veľký vplyv na odparovací náter má aj teplota substrátu. Zvyškové molekuly plynu adsorbované na povrchu substrátu pri vysokých teplotách substrátu sa dajú ľahko odstrániť. Dôležitejšie je najmä vylúčenie molekúl vodnej pary. Okrem toho je nielen ľahké podporiť prechod z fyzikálnej adsorpcie na chemickú adsorpciu pri vyššej teplote, čím sa zvýši väzbová sila medzi časticami. Okrem toho sa môže znížiť rozdiel medzi teplotou rekryštalizácie molekúl pary a teplotou substrátu, čím sa zníži alebo odstráni vnútorné napätie na rozhraní filmu a substrátu. Okrem toho, keďže teplota substrátu súvisí s kryštalickým stavom filmu, amorfné alebo mikrokryštalické povlaky majú tendenciu sa ľahko vytvárať za podmienok nízkeho alebo žiadneho zahrievania na substráte. Naopak, keď je teplota vyššia, je ľahké vytvoriť kryštalický povlak. Zvýšenie teploty substrátu je tiež prospešné pre zlepšenie mechanických vlastností povlaku. Teplota podkladu by samozrejme nemala byť príliš vysoká, aby sa zabránilo opätovnému odparovaniu odpareného náteru.

3. Vplyv zvyškového tlaku plynu vo vákuovej komore na výkonnosť filmu

Tlak zvyškového plynu vo vákuovej komore má veľký vplyv na výkon membrány. Ak je tlak príliš vysoký, molekuly zvyškového plynu sa nielenže ľahko zrazia s odparenými časticami, takže sa zníži kinetická energia ľudí strieľajúcich na substrát, čo ovplyvňuje priľnavosť filmu. Okrem toho nadmerný zvyškový tlak plynu vážne ovplyvní čistotu membrány a zníži výkon povlaku.

4. Vplyv teploty vyparovania na odparovací povlak

Vplyv teploty vyparovania na vlastnosti filmu je znázornený rýchlosťou vyparovania ako funkcie teploty. Keď je teplota odparovania vysoká, teplo odparovania sa zníži. Ak sa fóliový materiál vyparí nad teplotu vyparovania, aj nepatrná zmena teploty môže spôsobiť rýchlu zmenu rýchlosti vyparovania fóliového materiálu. Preto je veľmi dôležité presne kontrolovať teplotu vyparovania počas nanášania filmu, aby sa predišlo veľkému teplotnému gradientu pri zahrievaní zdroja vyparovania. Pre fóliový materiál, ktorý sa ľahko sublimuje, sa ako ohrievač volí samotný fóliový materiál a veľmi dôležité sú aj opatrenia, ako je odparovanie. .

Vyššie uvedené štyri aspekty sú najbežnejšími faktormi ovplyvňujúcimi výkon poťahovacej vrstvy vákuového poťahovacieho stroja a sú tiež najbežnejšími ovplyvňujúcimi faktormi. Počas procesu poťahovania vákuového poťahovacieho stroja je potrebné zabezpečiť, aby tieto faktory boli v normálnom stave.