Magnetrónový rozprašujúci vákuový náterový stroj

Magnetrónový rozprašujúci vákuový náterový stroj

Vákuový systém naprašovania magnetrónu využíva vysoko energetické ióny na uloženie tenkej vrstvy materiálu na substrát. Tento proces je rýchly a lacný a produkuje vysokokvalitný náter. Vysoko energetické ióny sa uvoľňujú zo zdrojového materiálu a zrážajú sa so inertným plynom, ako je argón. Tieto ióny produkujú plazmu a atómy zdrojového materiálu sú vyhodené.

Vákuový stroj na naprachovanie magnetrónu sa bežne používa vo výrobe šperkov. Jeho rotačné a stacionárne vzory sa dajú ľahko upraviť tak, aby spĺňali širokú škálu požiadaviek na povlaky. Tento stroj je vhodný na poťahovanie akéhokoľvek kovového alebo nekovového substrátu. Môže sa tiež použiť na pokrytie plastov, keramiky a kryštálového skla. Medzi jeho špičkové vlastnosti patrí dobrá uniformita a rýchlosť ukladania.

Vákuový systém na naprachovanie magnetrónu je výkonným a univerzálnym nástrojom na výrobu veľkoobjemovej výroby. V závislosti od potrieb a aplikácie môže táto technika vytvárať tenké filmy so širokou škálou požadovaných vlastností. Na optimalizáciu procesu sa môžu použiť rôzne energetické systémy, materiály a plyny. Pred začiatkom procesu je substrát namontovaný do držiaka. Držiak potom prechádza cez komoru záťažového zámku, aby sa zabránilo pohybu.

Tento vákuový poťahovací systém je nízkonákladová metóda, ktorá produkuje vysokokvalitné povlaky s vysokým percentom priepustnosti. Je ideálny pre letectvo a špičkovú výrobu elektroniky. Môže sa tiež použiť na zliatinové pokovovanie a kompozitné kovové filmy. Je to ekonomický a efektívny spôsob, ako na pokrytie mnohých druhov materiálov.

Vákuový systém naprašovania magnetrónu používa zdroj naprašovania, ktorý využíva elektrónové uväznenie. Magnety zachytávajú elektróny na povrchu cieľa, čo vedie k vyššej hustote plazmy a vyššej rýchlosti ukladania. Na rozdiel od konvenčných metód rozprašovania je táto technika bezpečná a nespôsobuje poškodenie objektu povlaku.

Dôležitým faktorom je rozprašovací plyn používaný v procese. Typ plynu na použitie závisí od atómovej hmotnosti substrátu. Napríklad ľahšie materiály využívajú z používania neónu alebo xenónu. Ak komora obsahuje kyslík, proces bude reaktívny.

Proces rozprašovania zahŕňa vystavenie cieľového materiálu reaktívnym plynom. Tieto plyny reagujú s cieľovým materiálom a vytvárajú molekulárnu zlúčeninu. Materiál sa potom ukladá ako tenký film. Napríklad, keď je cieľ kremíka reaktívne naprašovaný kyslíkom alebo dusíkom, produkuje oxid kremík alebo nitrid kremíka. Táto metóda sa často používa na pokrytie viacerých materiálov súčasne.

Magnetrónový rozprašovací stroj

Viacúčelové iónové a rozprašovacie povlaky je možné ukladať v širokej škále farieb. Zazvonenie farieb sa môže ďalej vylepšiť zavedením reaktívnych plynov do komory počas procesu depozície. Všeobecne používané reaktívne plyny na dekoratívne povlaky sú dusík, kyslík, argón alebo acetylén. Dekoratívne povlaky sa vyrábajú v určitom farebnom rozsahu v závislosti od pomeru kovu k plynu v povlaku a štruktúre povlaku. Oba tieto faktory sa môžu zmeniť zmenou parametrov depozície.

Pred uložením sa časti čistia, takže povrch je bez prachu alebo chemických nečistôt. Po spustení procesu náteru sa všetky príslušné parametre procesu nepretržite monitorujú a riadia automatickým systémom riadenia počítača.

• Materiál substrátu: sklo, kov (uhlíková oceľ, nehrdzavejúca oceľ, mosadz), keramika, plast, šperky.

• Typ štruktúry: vertikálna štruktúra, nerezová oceľ #304.

• Potiahnutie filmu: Multifunkčný kovový film, kompozitný film, priehľadný vodivý film, film zvyšujúci odrazivosť, elektromagnetický tieniaci film, dekoratívny film.

• Filma filmu: viacstranné farby, čierna pištoľ, titánska zlatá farba, ružová zlatá farba, farba z nehrdzavejúcej ocele, fialová farba, tmavočná, tmavomodrá a ďalšie viac farieb.

• Typ filmu: Tin, CRN, ZRN, TICN, TICRN, TINC, TIALN a DLC.

• Spotrebiteľstvo vo výrobe: titán, chróm, zirkón, železo, zliatinový cieľ; Target roviny, valcový cieľ, Twin Target, opačný cieľ.